妳的(de)位(wei)置:首(shou)頁 > 技術(shu)文(wen)章 > 圓(yuan)珠(zhu)筆(bi)筆(bi)芯(xin)抗(kang)泄(xie)漏(lou)性測(ce)試(shi)方法概述(shu)壹(yi)水(shui)性筆(bi)減(jian)壓儀
技術(shu)文(wen)章圓(yuan)珠(zhu)筆(bi)在(zai)生(sheng)活(huo)以及(ji)商(shang)務(wu)活動中是常(chang)用(yong)的(de)工(gong)具(ju),在應(ying)用(yong)中時常(chang)發(fa)現(xian)圓(yuan)珠(zhu)筆(bi)和(he)筆(bi)芯(xin)的墨(mo)水泄漏(lou),-坦泄(xie)漏(lou)產生(sheng)不(bu)僅影響其(qi)正常(chang)使(shi)用(yong),更(geng)會(hui)沾(zhan)染(ran)紙張(zhang)或(huo)衣物。筆(bi)芯(xin)的抗(kang)泄(xie)漏(lou)性能(neng)是圓(yuan)珠(zhu)筆(bi)及(ji)筆(bi)芯(xin)質量的(de)重(zhong)要指標(biao),那(na)麽廠(chang)家(jia)該(gai)如何(he)確保(bao)水性(xing)圓(yuan)珠(zhu)筆(bi)和(he)筆(bi)芯(xin)有良好的(de)抗(kang)漏(lou)性呢?國標(biao)QB/T 1655 2006對水(shui)性(xing)圓(yuan)珠(zhu)筆(bi)和(he)筆(bi)芯(xin)的抗(kang)漏(lou)性試(shi)驗(yan)方法、檢(jian)驗規則(ze)均進(jin)行了規定(ding)。
按QB/T 1655- 2006水性(xing)圓(yuan)珠(zhu)筆(bi)和(he)筆(bi)芯(xin)標準(zhun)規定(ding),檢(jian)測儀器名稱(cheng)為(wei)減壓儀,普(pu)創科技( Paratronix ) LT-02WP水(shui)性(xing)筆(bi)減(jian)壓儀。該(gai)密(mi)封(feng)試(shi)驗(yan)儀采用(yong)減(jian)壓原理檢(jian)測水(shui)性(xing)圓(yuan)珠(zhu)筆(bi)和(he)筆(bi)芯(xin)的抗(kang)泄(xie)漏(lou)性能(neng),設(she)備可自(zi)動恒(heng)壓補氣(qi),自(zi)動反(fan)吹卸載(zai)和(he)自(zi)動結(jie)束試驗,操(cao)作(zuo)十分(fen)方便。
檢(jian)測儀器:LT-02WP水性(xing)筆(bi)減(jian)壓儀

目前該(gai)儀器在文(wen)具(ju)企(qi)業中已被(bei)廣(guang)泛(fan)使用(yong)。
測試步驟
1、將LT_02WP水性筆(bi)減(jian)壓儀減壓速度(du)調(tiao)至10-12KPa/min
2、將儲墨(mo)容器中貯有占(zhan)容(rong)量1/2墨(mo)水的筆(bi)作(zuo)為(wei)試筆(bi)(試(shi)樣)
3、去(qu)掉試(shi)筆(bi)筆(bi)套(tao),將試筆(bi)筆(bi)頭(tou)朝(chao)下垂(chui)直插(cha)入(ru)筆(bi)架(jia),放(fang)置於密(mi)封(feng)試(shi)驗(yan)儀(減壓儀)的真(zhen)空(kong)罐內(nei),之後蓋上真空(kong)罐上蓋。
4、打開壓縮氣源(yuan),設(she)定(ding)密(mi)封(feng)試(shi)驗(yan)儀的試(shi)驗(yan)真空(kong)度(du)(按標準(zhun)QB/T 1655 2006中表2的規定(ding)即可)與鎮(zhen)空(kong)保(bao)持時(shi)間(jian)(標(biao)準(zhun)規定(ding)為(wei)10min)。設(she)定(ding)真(zhen)空(kong)度(du)時(shi)壹(yi)-定(ding)要註 意(yi)儲(chu)水芯(xin)式(shi)筆(bi)芯(xin)與直液(ye)式(shi)筆(bi)芯(xin)的真空(kong)度(du)設(she)定(ding)值不(bu)同。
5、啟動試(shi)驗,當(dang)真空(kong)度(du)達(da)到預(yu)定(ding)值之(zhi)後,LT-02WP水性筆(bi)減(jian)壓儀將自(zi)動按照預(yu)置程序(xu)保(bao)持真(zhen)空(kong)度(du)。檢(jian)測查(zha)試(shi)筆(bi)應(ying)不(bu)滴(di)漏(lou)墨(mo)水。