塗(tu)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)的影響(xiang)因(yin)素(su)及(ji)遵(zun)守(shou)規(gui)定(ding)

   塗(tu)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)可(ke)無損(sun)地(di)測量磁性(xing)金屬(shu)基體(ti)(如(ru)鋼、鐵、合金和硬磁性(xing)鋼等(deng))上(shang)非磁(ci)性(xing)塗(tu)層(ceng)的厚(hou)度(du)(如(ru)鋁(lv)、鉻(ge)、銅(tong)、琺瑯(lang)、橡膠(jiao)、油漆等(deng)) 及(ji)非(fei)磁(ci)性(xing)金屬(shu)基體(ti)(如(ru)銅(tong)、鋁(lv)、鋅(xin)、錫(xi)等(deng))上(shang)非導(dao)電覆(fu)層(ceng)的厚(hou)度(du)(如(ru):琺(fa)瑯(lang)、橡膠(jiao)、油漆、塑料等(deng))。塗(tu)鍍層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)具(ju)有測(ce)量誤(wu)差小(xiao)、可(ke)靠性(xing)高、穩(wen)定(ding)性(xing)好、操(cao)作簡(jian)便等(deng)特(te)點，是控制(zhi)和保證(zheng)產品(pin)質量*的檢(jian)測(ce)儀(yi)器，廣泛(fan)地(di)應用在(zai)制(zhi)造(zao)業(ye)、金(jin)屬(shu)加工(gong)業(ye)、化(hua)工(gong)業(ye)、商(shang)檢(jian)等(deng)檢(jian)測(ce)領(ling)域。濟(ji)南普(pu)創(chuang)小(xiao)編(bian)整(zheng)理(li)了(le)塗(tu)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)的影響(xiang)因(yin)素(su)如下：

   1、基(ji)體金屬(shu)磁性(xing)質

   磁(ci)性(xing)法(fa)測(ce)厚(hou)受基體(ti)金(jin)屬(shu)磁性(xing)變化(hua)的影響(xiang)（在(zai)實(shi)際(ji)應(ying)用中，低(di)碳(tan)鋼磁(ci)性(xing)的變化(hua)可(ke)以認(ren)為是輕(qing)微(wei)的），為了(le)避(bi)免(mian)熱處(chu)理和(he)冷(leng)加(jia)工(gong)因(yin)素(su)的影響(xiang)，應(ying)使(shi)用與(yu)試件基體(ti)金(jin)屬(shu)具有相(xiang)同(tong)性(xing)質的標準片對(dui)儀(yi)器進(jin)行(xing)校準；亦可(ke)用待(dai)塗(tu)覆(fu)試(shi)件進行(xing)校準。

   2、基(ji)體(ti)金屬(shu)電性(xing)質

   基(ji)體金(jin)屬(shu)的電導(dao)率對(dui)測(ce)量有影響(xiang)，而(er)基(ji)體(ti)金(jin)屬(shu)的電導(dao)率與(yu)其材(cai)料成(cheng)分及(ji)熱處(chu)理方(fang)法(fa)有關(guan)。使(shi)用與(yu)試件基體(ti)金(jin)屬(shu)具有相(xiang)同(tong)性(xing)質的標準片對(dui)儀(yi)器進(jin)行(xing)校準。

   3、基(ji)體(ti)金屬(shu)厚(hou)度(du)

   每(mei)壹(yi)種(zhong)儀器都(dou)有壹(yi)個(ge)基(ji)體(ti)金(jin)屬(shu)的臨界(jie)厚(hou)度(du)。大(da)於(yu)這(zhe)個(ge)厚(hou)度(du)，測(ce)量就不(bu)受基體(ti)金(jin)屬(shu)厚(hou)度(du)的影響(xiang)。

   4、邊緣(yuan)效(xiao)應

本儀器對(dui)試(shi)件表(biao)面(mian)形(xing)狀的陡變(bian)敏感。因此(ci)在(zai)靠(kao)近試(shi)件邊緣(yuan)或(huo)內轉角(jiao)處進(jin)行(xing)測量是不(bu)可(ke)靠的。

1. 曲率(lv)

   試(shi)件的曲率(lv)對(dui)測(ce)量有影響(xiang)。這(zhe)種(zhong)影響(xiang)總(zong)是隨(sui)著曲率(lv)半(ban)徑的減少明顯(xian)地(di)增大。因(yin)此(ci)，在(zai)彎(wan)曲試(shi)件的表(biao)面(mian)上(shang)測量是不(bu)可(ke)靠的。

   6、試(shi)件的變形(xing)

   測(ce)頭(tou)會(hui)使(shi)軟(ruan)覆(fu)蓋層(ceng)試(shi)件變形(xing)，因(yin)此(ci)在(zai)這(zhe)些(xie)試件上(shang)測出(chu)可(ke)靠的數據(ju)。

   7、表(biao)面(mian)粗(cu)糙(cao)度(du)

   基體金(jin)屬(shu)和覆(fu)蓋層(ceng)的表(biao)面(mian)粗(cu)糙(cao)程(cheng)度對(dui)測(ce)量有影響(xiang)。粗(cu)糙程(cheng)度增(zeng)大(da)，影響(xiang)增(zeng)大。粗(cu)糙(cao)表(biao)面(mian)會(hui)引(yin)起(qi)系統(tong)誤(wu)差和(he)偶(ou)然(ran)誤(wu)差，每(mei)次測(ce)量時，在(zai)不(bu)同(tong)位(wei)置(zhi)上(shang)應增(zeng)加測(ce)量的次數，以(yi)克服(fu)這(zhe)種(zhong)偶(ou)然(ran)誤(wu)差。如(ru)果(guo)基(ji)體(ti)金(jin)屬(shu)粗糙(cao)，還(hai)必(bi)須在(zai)未(wei)塗(tu)覆(fu)的粗糙(cao)度相(xiang)類(lei)似(si)的基體(ti)金屬(shu)試件上(shang)取幾(ji)個(ge)位(wei)置(zhi)校(xiao)對(dui)儀(yi)器的零點(dian)；或用對(dui)基(ji)體(ti)金屬(shu)沒(mei)有腐(fu)蝕的溶液溶(rong)解(jie)除(chu)去(qu)覆(fu)蓋層(ceng)後(hou)，再(zai)校對(dui)儀(yi)器的零點(dian)。

   8、磁(ci)場

周圍各(ge)種(zhong)電氣設(she)備所(suo)產(chan)生(sheng)的強(qiang)磁場，會嚴(yan)重地(di)幹擾(rao)磁性(xing)法(fa)測(ce)厚(hou)工(gong)作(zuo)。

1. 附著物(wu)質

   本(ben)儀器對(dui)那(na)些(xie)妨(fang)礙(ai)測(ce)頭與(yu)覆(fu)蓋層(ceng)表(biao)面(mian)緊(jin)密(mi)接(jie)觸(chu)的附著物(wu)質敏感，因此(ci)，必(bi)須清除(chu)附著物(wu)質，以保證(zheng)儀器測(ce)頭和(he)被測試(shi)件表(biao)面(mian)直(zhi)接(jie)接(jie)觸(chu)。

   10、 測頭壓(ya)力

測(ce)頭(tou)置於(yu)試件上(shang)所(suo)施(shi)加(jia)的壓(ya)力大小會(hui)影響(xiang)測(ce)量的讀數，因(yin)此(ci)，要保持(chi)壓(ya)力恒定(ding)。

1. 測(ce)頭(tou)的取向(xiang)

測頭的放置方(fang)式對(dui)測(ce)量有影響(xiang)。在(zai)測(ce)量中，應(ying)當使(shi)測頭(tou)與(yu)試樣(yang)表(biao)面(mian)保持(chi)垂(chui)直。

• 使(shi)用儀器時應當遵(zun)守(shou)的規(gui)定(ding)

a) 基(ji)體(ti)金屬(shu)特性(xing)

對(dui)於(yu)磁性(xing)方法(fa)，標(biao)準片的基體(ti)金屬(shu)的磁性(xing)和表(biao)面(mian)粗(cu)糙(cao)度(du)，應(ying)當與(yu)試件基體(ti)金(jin)屬(shu)的磁性(xing)和表(biao)面(mian)粗(cu)糙(cao)度(du)相(xiang)似(si)。

   對(dui)於(yu)渦(wo)流(liu)方(fang)法(fa)，標(biao)準片基(ji)體金屬(shu)的電性(xing)質，應當與(yu)試件基體(ti)金(jin)屬(shu)的電性(xing)質相(xiang)似(si)。

b) 基體金屬(shu)厚(hou)度(du)

檢(jian)查(zha)基(ji)體金屬(shu)厚(hou)度(du)是(shi)否超過臨界(jie)厚(hou)度(du)，如(ru)果(guo)沒(mei)有，可(ke)采用3.3)中的某(mou)種(zhong)方法(fa)進(jin)行(xing)校準。

c) 邊緣效(xiao)應(ying)

   不(bu)應在(zai)緊(jin)靠試(shi)件的突變處，如(ru)邊(bian)緣(yuan)、洞和(he)內轉角(jiao)等(deng)處(chu)進行(xing)測量。

   d) 曲(qu)率

不(bu)應在(zai)試(shi)件的彎曲(qu)表(biao)面(mian)上(shang)測量。

e) 讀(du)數次(ci)數

   通常(chang)由(you)於(yu)儀器的每(mei)次讀(du)數並(bing)不(bu)*相(xiang)同(tong)，因此(ci)必須在(zai)每(mei)壹(yi)測量面(mian)積內取幾(ji)個(ge)讀(du)數。覆(fu)蓋層(ceng)厚(hou)度(du)的局部(bu)差異，也(ye)要求(qiu)在(zai)任(ren)壹(yi)給(gei)定(ding)的面(mian)積內進行(xing)多次(ci)測量，表(biao)面(mian)粗(cu)造(zao)時更(geng)應如此。

   f) 表(biao)面(mian)清潔(jie)度(du)

    測量前，應(ying)清除(chu)表(biao)面(mian)上(shang)的任何(he)附著物(wu)質，如塵土(tu)、油脂及(ji)腐(fu)蝕產(chan)物(wu)等(deng)，但(dan)不(bu)要除(chu)去(qu)任何(he)覆(fu)蓋層(ceng)物(wu)質。